您当前的位置: 首页 > >产品展示


  • UV Litho-Y无掩膜光刻机
    桌面型投影式无掩膜光刻机,光源波长405nm,光刻特征尺寸1.5um,支持样品尺寸从3mm×3mm到50mm×50mm
  • UV Litho-ACA无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩膜光刻机,光源波长405nm,光刻特征尺寸0.8um,支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm。
  • UV Litho-ACA Pro无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩膜光刻机,光源波长405nm,光刻特征尺寸0.4um,支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm,配激光光源和电子主动隔振。
  • UV Litho-S无掩膜光刻机
    工业型投影式无掩膜光刻机,光源波长405nm,光刻特征尺寸1um,支持样品尺寸从3mm×3mm到200mm×200mm。
  • UV Litho-S+无掩膜光刻机
    工业型投影式无掩膜光刻机,光源波长405nm,光刻特征尺寸0.5um,支持样品尺寸从3mm×3mm到200mm×200mm。
  • UV Litho-ACA Pro(XIP)无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩膜光刻机,光源波长385nm,光刻特征尺寸0.4um,支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm,配激光光源和电子主动隔振。
  • PL-3D Premium 3D光刻打印设备
    微纳3D打印设备,超高光学精度(最高可达1um),多精度自由切换,多波长紫外光源(405nm/385nm/365nm),切片层厚1-40μm范围可调,大幅面宏微观一体加工,支持样品尺寸100mm×100mm×40mm。
  • 磁光克尔效应磁滞回线测量仪
    激光波长633 nm,光斑直径1 mm,克尔角分辨率0.001°,磁场强度正负0.36 T,支持样品尺寸<25 mm*25 mm
  • 磁光克尔综合测试平台
    磁畴分辨率 <1μm,集成磁场、低温、栅压、激光、微波等多种变量于一体,磁-光-电同步测量,垂直磁场强度可达1.4 T,水平磁场强度可达0.7 T。
  • 偏光磁性检测显微镜
    偏光磁性检测显微镜,由显微镜主体及其控制单元构成,主要用来 静态和动态磁畴观测及磁滞回线提取。相较于传统的单点磁滞回线 测量仪,可以追踪平面内数百万点的实时磁性动态信息。结合该成 像系统提供的直流探针,高频探针,样品的测试无比便捷。当下自 旋电子学或磁学的研究,已经由磁性驱动的翻转,发展到了直流电 流驱动、脉冲电流驱动、微波脉冲驱动、光驱动等一系列的激励源 作用下的深度研究。实现在室温条件下测试垂直各向异性/面内各向 异性材料的磁畴反转过程,成像清晰,拍摄速度达到 30 帧/秒。
  • 可编程双极性励磁电源
    双控制模式、双输出模式,电流连续过零点,输出电流规格±15 A,±20 A,±35 A,±50 A,输出功率可达3200W,电流稳定度优于±50 ppm/h,磁场模式磁场稳定度优于±0.05 Gs
  • 显微光电流光谱测试系统
    托托科技光电流光谱测试系统,适用于光电流、光谱、荧光寿命的微米级点线面扫描测试。