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  • UV Litho-ACA无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩膜光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸0.8um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm。
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  • UV Litho-ACA Pro无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩膜光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸0.4um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm，配激光光源和电子主动隔振。
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  • UV Litho-S无掩膜光刻机
    工业型投影式无掩膜光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸1um，支持样品尺寸从3mm×3mm到200mm×200mm。
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  • UV Litho-S+无掩膜光刻机
    工业型投影式无掩膜光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸0.5um，支持样品尺寸从3mm×3mm到200mm×200mm。
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  • UV Litho-ACA Pro(XIP)无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩膜光刻机，光源波长385nm，光刻特征尺寸0.4um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm，配激光光源和电子主动隔振。
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  • PL-3D Premium 3D光刻打印设备
    微纳3D打印设备，超高光学精度（最高可达1um），多精度自由切换，多波长紫外光源（405nm/385nm/365nm），切片层厚1-40μm范围可调，大幅面宏微观一体加工，支持样品尺寸100mm×100mm×40mm。
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  • 磁光克尔效应磁滞回线测量仪
    激光波长633 nm，光斑直径1 mm，克尔角分辨率0.001°，磁场强度正负0.36 T，支持样品尺寸<25 mm*25 mm
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  • 磁光克尔综合测试平台
    磁畴分辨率 <1μm，集成磁场、低温、栅压、激光、微波等多种变量于一体，磁-光-电同步测量，垂直磁场强度可达1.4 T，水平磁场强度可达0.7 T。
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  • 偏光磁性检测显微镜
    偏光磁性检测显微镜，由显微镜主体及其控制单元构成，主要用来 静态和动态磁畴观测及磁滞回线提取。相较于传统的单点磁滞回线 测量仪，可以追踪平面内数百万点的实时磁性动态信息。结合该成 像系统提供的直流探针，高频探针，样品的测试无比便捷。当下自 旋电子学或磁学的研究，已经由磁性驱动的翻转，发展到了直流电 流驱动、脉冲电流驱动、微波脉冲驱动、光驱动等一系列的激励源 作用下的深度研究。实现在室温条件下测试垂直各向异性/面内各向 异性材料的磁畴反转过程，成像清晰，拍摄速度达到 30 帧/秒。
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  • 可编程双极性励磁电源
    双控制模式、双输出模式，电流连续过零点，输出电流规格±15 A，±20 A，±35 A，±50 A，输出功率可达3200W，电流稳定度优于±50 ppm/h，磁场模式磁场稳定度优于±0.05 Gs
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  • 显微光电流光谱测试系统
    托托科技光电流光谱测试系统，适用于光电流、光谱、荧光寿命的微米级点线面扫描测试。
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  • 激光合束模组
    可自由组合所需波长激光器；程控0-100mW功率调节；程控TTL频率调制；包括，但不限于375 nm、445 nm、520 nm、635 nm、808 nm、1064 nm、1310 nm、1550 nm。
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