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UV Academia系列【科研版】

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  • UV Litho-ACA无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩膜光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸0.8um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm。
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  • UV Litho-ACA Pro无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩膜光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸0.4um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm，配激光光源和电子主动隔振。
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  • UV Litho-ACA Pro(XIP)无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩膜光刻机，光源波长385nm，光刻特征尺寸0.4um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm，配激光光源和电子主动隔振。
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