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无掩膜版紫外光刻机

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  • UV Litho-Y无掩膜光刻机
    桌面型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸1.5um，支持样品尺寸从3mm×3mm到50mm×50mm
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  • UV Litho-ACA无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸1um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm。
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  • UV Litho-ACA Pro无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸0.6um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm，配激光光源和电子主动隔振。
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  • UV Litho-S无掩膜光刻机
    工业型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸1um，支持样品尺寸从3mm×3mm到200mm×200mm。
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  • UV Litho-S+无掩膜光刻机
    工业型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸0.5um，支持样品尺寸从3mm×3mm到200mm×200mm。
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